半导体工业在摩尔定律的指引下飞速发展，光刻技术和光掩模技术的提升和发展无疑受到全球更多研究者的重视。Photomask and Next-generation Lithography Mask Technology XVII 学术会议每年的召开，给各国光刻及光掩模的研究者们提供了一个广阔的交流和展示的舞台。

  四月中旬，很荣幸和刘前老师及郭传飞师兄一起，赴日本横滨参加光学掩模国际会议。会议上聆听了国际上很多顶级研究单位的报告，极紫外光刻的最新进展、纳米压印在下一代光刻技术中的巨大潜力、光掩模的校正技术、CMOS的前景与需求……大到整个光刻领域的未来发展与瓶颈，小至掩模曝光中的残胶去除，沉浸在如此高强度、大信息量、国际前沿的报告与展示中，让很多像我一样的与会者兴奋不已，可谓大开眼界，受益匪浅。同时深深感触于半导体制造工艺惊人的发展速度，对下一代光刻与掩模技术有了更加深刻的认识。然而，提到光刻与掩模技术，我们就无法回避这样现实：我国在这方面的研究投入还远远不足，正如同我在会议中的所遇，很难得的碰见几位华人，而他们却多数就职于美国IBM、日本东芝等公司。真切希望，国内越来越多的研究单位和研究者投入到其中，为我国IC行业的发展注入更多的血液。

　

不记得几何，也曾幻想过“樱花雨”的画面，终于，这次真切感受了那种“置身樱花丛，沐浴落樱雨”的美妙旋律。欣赏樱花盛开，更欣赏飘落的樱花之美。恰如本次的日本之旅，醉于其中，回味无穷。（本稿件由王永胜同学提供）